品名:
顯影中和劑 HA-318
產品簡介:
1. HA-318中和劑對於顯影後濕膜側壁產生保護及水洗效果提升,進而改善良率,降低用水量。
2. HA-318中和劑能改善管理問題顯影液內之不飽和物質即會失去沾黏能力,可確保顯影後板件不再受此問題而影響品質。
3. HA-318中和劑可改善光阻反沾、光阻殘留與噴嘴阻塞等現象,並可有效提升設備保養的潔淨度。
操作條件:
1.操作溫度 :25c~30c
2.處理時間:噴灑時間:5~20sec
3.換槽頻率:每日當槽(12小時)
槽液配置:
1. 槽液配置:依10~12ml/L 的濃度將HA-318原液加入水中。
2. 添加:連續生產狀況下,每分鐘添加10ml(每片板子滴 定2ml, 線速3M/min) 。
配槽說明:
1. 於槽體中加入約配槽量50%體積的D.I水
2. 加入配槽所需的HA-318
3. 加入D.I水補至配槽液位,並循環攪拌均勻
建議製程流程:
1. 顯影
2. 顯影後處理 HA-318
3. 水洗*3
4. 視實際情況而定
5. 烘乾
設備要求:
槽體:PP、PVC
加熱器: SUS316
金屬成分: SUS316
抽風設備:不需要
注意事項:
1.避免眼睛、皮膚、於使用時並宜通風良好地點、勿內服用。
2.帶耐酸鹼衣物、手套、如有碰觸請以大量之清水清洗。
3.請依法規之廢棄物之清除。
產品包裝:
20公升以PVC桶包裝
顯影中和劑 HA-318
產品簡介:
1. HA-318中和劑對於顯影後濕膜側壁產生保護及水洗效果提升,進而改善良率,降低用水量。
2. HA-318中和劑能改善管理問題顯影液內之不飽和物質即會失去沾黏能力,可確保顯影後板件不再受此問題而影響品質。
3. HA-318中和劑可改善光阻反沾、光阻殘留與噴嘴阻塞等現象,並可有效提升設備保養的潔淨度。
4. HA-318適用製程: | DES、SES線 內、外層顯影線 防焊顯影線 |
|
應用 | 改善說明 | |
正片製程 | 銅點、短路 | |
負片製程 | 缺口、斷線 | |
防焊顯影 | 化金、錫之亮點,抗鍍 | |
設備 | 有效改善乾膜、油墨反沾現象,簡化加速洗槽流程 | |
操作條件:
1.操作溫度 :25c~30c
2.處理時間:噴灑時間:5~20sec
3.換槽頻率:每日當槽(12小時)
槽液配置:
1. 槽液配置:依10~12ml/L 的濃度將HA-318原液加入水中。
2. 添加:連續生產狀況下,每分鐘添加10ml(每片板子滴 定2ml, 線速3M/min) 。
配槽說明:
1. 於槽體中加入約配槽量50%體積的D.I水
2. 加入配槽所需的HA-318
3. 加入D.I水補至配槽液位,並循環攪拌均勻
建議製程流程:
1. 顯影
2. 顯影後處理 HA-318
3. 水洗*3
4. 視實際情況而定
5. 烘乾
設備要求:
槽體:PP、PVC
加熱器: SUS316
金屬成分: SUS316
抽風設備:不需要
注意事項:
1.避免眼睛、皮膚、於使用時並宜通風良好地點、勿內服用。
2.帶耐酸鹼衣物、手套、如有碰觸請以大量之清水清洗。
3.請依法規之廢棄物之清除。
產品包裝:
20公升以PVC桶包裝